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电子化学试剂按照纯度：
UP级:适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤,控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准
MOS级化学试剂是“金属-氧化物-半导体”(Metal-oxide-semiconductor)电路专用的特纯试剂的简称,是为适应大规模集成电路(LSI)的生产而出现的一个新的试剂门类.它属于生产金属氧化物半导体电路专用的化学品,是一种高纯试剂.其纯度要求单项金属离子杂质含 量均在10-7%~10-9%范围内.而更重要的是控制产品内微粒杂质（即尘埃和不溶颗粒）的个数,应当符合美国材料试验学会（ASTM）“0”级标准,即对5~10微米大小的颗粒,每100毫升中最大允许在2700个以下,而对5微米大小的颗粒,要求在304个以下.
电子化学试剂按照纯度：
UP级:适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤,控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准
MOS级化学试剂是“金属-氧化物-半导体”(Metal-oxide-semiconductor)电路专用的特纯试剂的简称,是为适应大规模集成电路(LSI)的生产而出现的一个新的试剂门类.它属于生产金属氧化物半导体电路专用的化学品,是一种高纯试剂.其纯度要求单项金属离子杂质含 量均在10-7%~10-9%范围内.而更重要的是控制产品内微粒杂质（即尘埃和不溶颗粒）的个数,应当符合美国材料试验学会（ASTM）“0”级标准,即对5~10微米大小的颗粒,每100毫升中最大允许在2700个以下,而对5微米大小的颗粒,要求在304个以下.